第281章最简单的保研方式是什么
高纯度的氮化硅材料基底正在进行‘等热-离子渗透’加工，
而韩元一心多用的一边照顾着，另一边则在特定条件下将用于制备‘有源层’的磷化砷铟复合材料再进行提纯过滤一次。
提纯用的设备在无尘工作室里面有，是他之前就通过系统商城兑换出来的零件组装的。
组装好后就一直没有动过，净洁方面完全完全不用担心。
过滤一次、提纯一次，处理好后的‘磷化砷铟复合材料’保存在特制的容器中，以保持液体状态备用。
处理氮化硅基底、过滤提纯有源层。
光是这两个制备步骤走完就已经过去了两个小时左右。
枯燥无味的步骤看的直播间里面的观众纷纷欲睡，大部分的观众都离开了直播间忙自己的事情去了。
闲极无聊留下来的观众要么是挂机的，要么在直播间内互相用弹幕聊天，或者互相问候对方有没有马。
至于各国各科研所蹲守在直播间内的光学专家们则目不转睛的盯着直播画面，生怕错过了任何细节。
纵然心中有一堆疑惑，但也没人发送弹幕或私信询问。
这个主播平常的时候根本就不怎么回答一些专业性问题，只有开播的时候或者下播的时候才有机会。
每当一个专业问题被回答的时候，提问的人心里就像古代的妃女被皇帝翻了牌子一样，满是惊喜。
氮化硅基底、有源层、薄膜层等材料都制备好后，韩元才稍稍停顿了一下手上的工作，一屁股坐在地上小憩着。
再不休息一会，他都感觉自己的大脑要过载了。
同时处理两件事，让他整个人忙的飞起，宛如一台精密设定却功能有限的仪器一样，根本就没有其他的脑细胞去控制他说话。
休息了十来分钟后，韩元才恢复一点精力，站起身，拉过镜头道：
“现在‘分布式布拉格反射镜’的氮化硅基底已经制备好了，接下来我要给它进行周期性镀刻有源层和薄膜层了。”
“虽然利用化学气相沉积法制备布拉格反射镜相对于其他方法来说步骤要多一些，但实际制取起来，在有专门仪器的情况下，速度是要快一点的。”
“第一步要做的是将刚刚制备出来的氮化硅材料清洗干净，然后放入腔室内进行加热升温。”
“等到温度提升到一定程度后，使用‘等热-离子掺杂法’在表面侵入一层离子镀层。”
“这里可以使用离子注入机，对比‘离子掺杂发’来说效果会更好一点。”
“因为高能离子注入机能将离子更深入的注入到氮化硅基底晶格里面去。”
“而且相对来说，使用高能离子注入机注入离子层需要的时间更短一些，更适合批量生产。”
“不过缺点也是有的，在使用高能离子注入机后，高速碰撞的离子会损坏氮化硅基底的晶格，需要进行一次氮化硅离子的填充补入。”
“至于使用等热-离子掺杂法，耗时会长不少。”
“处理一块氮化硅基底，如果说高能离子注入机启动后只需要三分钟的时间，那么使用‘等热-离子掺杂法’需要两个小时以上的时间。”
“而且过程中必须有人时刻盯着离子溶液中的离子浓度指数，在降低到警戒线前必须立刻补充。”
“至于优点也还是有的，‘等热-离子掺杂法’破坏氮化硅基底晶格系数低，不需要额外在进行一次补入氮化硅离子材料操作。”
这一次韩元说的一番话，直播间里面的观众倒是有不少都听懂了。
毕竟之前韩元用过不少次‘等热-离子掺杂法’了，而每一次使用，都会顺带讲解一下优缺点什么的。
【这样说大批量工业化生产还是使用离子注入机更好嘛。】
【懂了，这就去买一台高能离子注入机回来。（狗头）】
【敲黑板，这是重点，大家都拿小本本记下来！】
【我记个毛啊，你的黑板敲错了！】
【楼上的，你应该敲以下这些单位的黑板：@中科院，@青华大学，@BJ大学，@华国科技大学】
【看不起我魔都大学？居然没有名字？】
【不给面子？我华东理工大学也没名字？】
【别闹，‘华东工’大学还需要拿小本本记？拿耳机就可以了，保证能学会】
【话说我们什么时候也能拥有自己的顶级光刻机啊？这玩意实在太让人憋屈了。】
【快了快了，什么时候这个主播能造出来顶级光刻机，我们也就有了。】
【来来来，大家来讨论一下，你们见过的最奇葩的保研方法？】
【楼上这么一说，我顿时就不困了啊。】
【我先来，我爷爷就是副校长，保研小菜一碟，轻松的很！】
【再轻松也没有拿耳机轻松啊，顺手一拿，资格到手，美滋滋。】
【行窃预兆先攻符文已配备！】
虚拟屏幕上，弹幕如流水般划过。
观众对于韩元能不能制备出来‘分布式布拉格反射镜’并没有什么讨论，反而一个个的调侃起华国的各个大学来。
特别是最近发生的一些事情，更是占据了绝大部分的弹幕。
正好其他地方根本就不让讨论，特别是某大学的某些人，在ta们眼中，不是985级别学校的学生，根本就没资格参加讨论。
至于实际上国家有没有安排人在这个直播间内学习什么的，普通观众根本就不操心。
他们敢说这个直播间开启的没几天估计上面就已经知道了。
一个疑是外星人的直播间，一天到晚二十四小时都有人监控是肯定的。
毕竟这里是华国，控制力最强的国家，不是什么其他乱七八糟一天到晚枪击不断的国家。
弹幕繁杂吵闹，韩元和直播间里面的专家都没理会这些观众。
直播间里面的专家们是为了保证细节根本就没开弹幕。
至于韩元，他虽然看了弹幕，但长时间呆在模拟空间内的他对于现实世界发生什么并不太了解。
毕竟每次回去也只是露个面，打个电话给父母报个平安而已。
他已经有很长一段时间没有上网冲浪和打游戏什么的了。
对外界的消息闭塞的宛如村里还没通网一样，信息的获取全靠人传人。
不过有时候他还是能从直播间里面的弹幕上获取到一些感兴趣的东西的。
比如这次，韩元就对观众聊的华东理工大学比较感兴趣。
偷耳机？保研？
什么情况？
摇了摇头，韩元回过神来，将这件事记在心里，准备下次回去的时候查一下看看到底发生了什么事情。
至于现在，还是先继续处理‘分布式布拉格反射镜’。
电离、升温、镀刻、有源层底层第一次形成，高反射薄膜层第一次形成
一系列的操作流程不断在他手中变化着，时间也一点一点的过去。
氮化硅基底上，不同折射率的材料交替排列组成的周期结构以肉眼不可见的速度缓慢的不断叠加着。
忙碌到晚上十点多，韩元才停下手上的动作。
在他手中，一块已经覆盖了多层‘有源层’和‘薄膜层’周期性结构的氮化硅‘分布式布拉格反射镜’已经基础完成了。
拿在手中的氮化硅晶材的表面已经可以看到一层淡淡的非金属光感了。
这是‘有源层’和‘薄膜层’周期性结构排列后形成的。
现在还差最后两道步骤。
第一道是在表面进行镀刻Bn薄膜层。
另一道则是在Bn薄膜层上进行掺杂Cr离子和α·AlO离子。
如果之前看过蓝宝石玻璃制备的观众就知道，Cr：AlO是制备蓝宝石玻璃中化合生成的一种金属晶体结构。
形成的条件虽然比较苛刻，但并非没有办法。
通过特殊手段，韩元可以做到将两种离子同时注入Bn薄膜层中，最后形成单片稳定的Cr：AlO晶体结构。
这一步是用于弥补氮化硅材料作为基底而导致的离子空位缺陷的，可以增强对光线的反射率和镜面效果。
处理好剩下的两部，一块完整的‘分布式布拉格反射镜’就算完成了。
至于之所以是算完成了，那是因为还没有经过各种检测。
所以只能‘算’完成了。
只有经过详细和完整的检测流程后，制备出来的‘分布式布拉格反射镜’才是真正意义上的制备完成。
虽然目前他手中没有专业设备可以对其进行详细的检测，但韩元对自己亲手造出来的东西，还是有信心的。
而且也不是一点检测都不做，能做的一些常规检查他肯定都安排的上的。
夜深人静，十点二十，韩元停下了今天的直播，今天一天算下来，足足有十五个小时的直播时间。
最关键的是，还都是在工作。
这么长的工作时间，就是他自己都有点扛不住，更别说那些体质羸弱的专家了。
尽管直播间内学习的专家和科研学者们只需要看直播视频学习。
但十几个小时的集中精力学习，也远超了正常人能承受的范围。
高三、考研、博士毕业的时候他们都没这么折腾过，没想到现在四五十岁了，还要回到学习的海洋中苦渡。
虽然乐在其中，但强度太大了就要命了。
还记得之前直播制造锂硫电池的时候吗？那时候就有一名院士被折腾进了医院。
这次更甚，要不是上面设定了人员轮换，并且安排了专人看管。
否则这次制备‘分布式布拉格反射镜’能让一大批光学专家住进医院看直播。
一天工作十几个小时，这是人吗？
资本家都没这么黑心。
时间如流水，两天的时间很快就过去了。
在一天工作接近十五个小时左右的情况下，韩元已经顺利的完成了‘分布式布拉格反射镜’的制备。
成品也顺利的通过了所有的基础检测。
除了反射镜外，韩元又花费了一些时间将用传光系统的透镜、凹镜等镜面制备了出来。
而‘分布式布拉格反射镜’和普通透镜等镜面的制备完成，宣告光刻机的制备进入了尾声。
剩下的能量控制器、光度控制器这类控制器相关的零件比起光源、光镜这些东西来说难度就要低不少了。
至少硬件上，以及对韩元来说是这样的。
毕竟控制器这类零件的关键核心有很大一部分在于软件控制上。
而这一部分韩元是暂时没法处理的。
晶体管计算机的运算次数虽然达到了每秒六百万次左右，但这个运算速度对于计算机来说，简直低的可怜。
随便来点什么现代化的控制程序就远超过了它的计算范畴。
韩元暂时也不准备折腾了计算机的控制程序，他准备利用磁晶板上自带的一些运算方式来结合手动操作进行芯片电路图的雕刻。
只是说，这样一来，控制光刻机在芯片上雕刻电路图需要的时间就不短了。
一块现代化集成芯片里面的电路图及其复杂，是由数亿个晶体光组成的。
这个数量，让韩元一个人操控光刻机进行手工曝光，别说一年了，给他十年的时间都弄不出来。
且不说精度问题，就是掩膜版的设计制造都完不成。
光刻机的原理，用最简单的话来理解。
其实就是一束光，照到芯片上，来去除掉芯片晶圆表面的保护膜。
然后再利用腐化剂，将失去保护膜的部分腐蚀掉，形成电路。
至于掩膜版，掩膜版和之前韩元制备出来的掩膜台可不是一个东西。
掩膜台使用来盛放晶圆的。
而掩膜版，是电路图的雕刻图。
大家小时候都玩过影子游戏，利用一双手，在灯光的照射下，就可以在墙壁上形成各种各样的影子。
比如活泼可爱的小白兔、展翅高飞的老鹰、凶恶狡猾的大灰狼、憨态可掬的小肥猪等各种各样的动物。
而掩膜版的作用就和手是一样的，通过事先在掩膜版上雕刻好需要的电路图，然后覆盖在芯片晶圆表面。
再通过光源照射，就可以去掉想要去掉的电路图部分了。
当然，这是便于理解而做的简单解释。
事实上，一块单晶硅晶圆要变成一片芯片有数以百计的步骤要走，复杂程度根本就不是一家公司能够搞定的。
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